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光刻胶国产化：打破封锁的关键突破
华科最新发布的T150A光刻胶实现量产，标志着我国在光刻胶国产化方面迈出重要一步。虽然该产品属于第三代KrF系列，制程极限约120纳米，与最先进的EUV技术尚有差距，但全国产化原材料的完成为120纳米及以上制程的芯片生产线建设奠定了基础。本文深入解析光刻胶产业链壁垒、技术难点及未来发展挑战，揭示国产光刻胶突破背后的产业联动和商业化难题。
三星A56推AI平民化，中端手机如何让AI触手可及？
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AI架构大神贾扬清离职创业，剑指大模型基础设施
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