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光刻胶国产化：打破封锁的关键突破
华科最新发布的T150A光刻胶实现量产，标志着我国在光刻胶国产化方面迈出重要一步。虽然该产品属于第三代KrF系列，制程极限约120纳米，与最先进的EUV技术尚有差距，但全国产化原材料的完成为120纳米及以上制程的芯片生产线建设奠定了基础。本文深入解析光刻胶产业链壁垒、技术难点及未来发展挑战，揭示国产光刻胶突破背后的产业联动和商业化难题。
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9月26日北京举办活动，发布首批人工智能应用场景联合研发平台，探索大模型与应用场景融合新路径，分析了大模型应用落地阻碍，介绍了联合研发举措及后续计划，还启动了相关大赛。
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室温超导再迎突破：1万个大气压下实现21℃超导
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